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Linsen und Ablenksysteme

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Vierter Internationaler Kongress für Elektronenmikroskopie / Fourth International Conference on Electron Microscopy / Quatrième Congrès International de Microscopie Électronique

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Zusammenfassung

Die rechnerische Untersuchung eines elektronenoptischen Systems erfordert in der Regel so genaue Werte der Feldverteilung, wie sie nur mit modernen elektronischen Digitalmaschinen erhalten werden können. Die Erfahrung zeigt aber, daß die Lösung der Potentialgleichung nach dem Maschenverfahren mit programmgesteuerten universalen elektronischen Maschinen recht zeitraubend (Programmieren) und relativ kostspielig (lange Lösungszeit) ist. Müssen laufend viele Felder berechnet werden, so lohnt es sich, eine relativ billige Spezialanlage zur Lösung der Potentialgleichung zu bauen. Sie muß sich durch geringen Arbeitsaufwand bei der Einführung der Ausgangsdaten und durch große Genauigkeit auszeichnen und so die Vorteile eines Widerstandsnetzes und einer digitalen Rechenmaschine in sich vereinigen. Dies wird erzielt durch Serienschaltung eines Netzgerätes, das die Potentialgleichung in erster Näherung löst, mit einer einfachen, spezialisierten Digitalmaschine, die den Approximationsfehler jener Lösung reduziert.

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Literatur

  1. Kantorowitsch, L., u. W. Krilow: Näherungsmethoden der höheren Analysis. Berlin: VEB. Dtsch. Verlag der Wissenschaften, 1956.

    MATH  Google Scholar 

  2. Der-Schwarz, G.: Radiotechnika i Elektronika Bd. III, N2, S. 262 (1958)

    Google Scholar 

  3. Der-Schwarz, G.: Radiotechnika i Elektronika Bd. IV, N 2, S. 347 (1959).

    Google Scholar 

  4. Siehe z. B. W. Glaser: Grundlagen der Elektronenoptik, insbes. S. 164ff. Springer 1952.

    Google Scholar 

  5. Netrebenko, K.: Ismeritelnaja Techn. 1958, N4, 70.

    Google Scholar 

  6. Der-Schwarz, G., u. K. Netrebenko: Priborostrojenije 1958, N9; Bd. IV, N 2, S. 347 (1959).

    Google Scholar 

  7. Leondes, C., u. M. Rubinoff: A.I.E.E. Trans. 71, 303 (1952).

    MathSciNet  Google Scholar 

  8. Der-Schwarz, G., u. K. Netrebenko: Elektritschestwo 1958, N5, 51.

    Google Scholar 

  9. Rang, O.: Optik 4, 251 (1948).

    Google Scholar 

  10. Heise, F., u. O. Rang: Optik 5, 201 (1949).

    Google Scholar 

  11. Heise, F., Optik 5, 479 (1949).

    Google Scholar 

  12. Lippert, W., u. W. Pohlit: Optik 9, 456 (1952).

    Google Scholar 

  13. Lippert, W.: Optik 10, 447 (1953).

    Google Scholar 

  14. Lippert, W.: Z. wiss. Mikrosk. 61, 172 (1952).

    Google Scholar 

  15. Katagiri, S.: J. Electr. Microsc. 1, 13 (1953).

    Google Scholar 

  16. Morito, K.: J. appl. Physics 25, 986 (1954).

    Article  ADS  MATH  Google Scholar 

  17. Weitsch, W.: Optik 15, 492 (1958)

    Google Scholar 

  18. Weitsch, W.: Optik 16, 56 (1959).

    Google Scholar 

  19. Ardenne, M. v.: Elektronen-Übermikroskopie. Berlin: Springer 1940.

    Book  Google Scholar 

  20. Katagiri, S., and B. Tadano: Measurement of astigmatic difference, Report of the Cooperative Research Committee on Electronmicroscopy of Japan, No. 54-A-2 (1950).

    Google Scholar 

  21. Haine, M. E., and T. Mulvey: J. sci. Instrum. 81, 326 (1954).

    Article  ADS  Google Scholar 

  22. Leisegang, S.: Optik 11, 49 (1954).

    Google Scholar 

  23. Katagiri, S.: Rev. sci. Instrum. 26, 870 (1955).

    Article  ADS  Google Scholar 

  24. Watanabe, H., and N. Morito: Optik 12, 166 (1955).

    Google Scholar 

  25. Morito, N.: J. appl. Physics 25, 986 (1954).

    Article  ADS  MATH  Google Scholar 

  26. Lenz, F.: Z. angew. Physik 8, 492 (1956).

    MATH  Google Scholar 

  27. Kimitra, H.: Proc. of the first regional conference on electron microscopy in Asia and Oceania, Tokyo 1956, p. 108.

    Google Scholar 

  28. Reisner, J. H., and E. G. Dornfeld: J. appl. Physics 21, 1131 (1950).

    Article  ADS  Google Scholar 

  29. Borries, B. v.: Kolloid-Z. 114, 164 (1949).

    Article  Google Scholar 

  30. Kimura, H., and T. Fujioka: Hitachi Hyoron 36, 1517 (1954).

    Google Scholar 

  31. Kimura, H.: Hitachi Rev. 6, 1 (1957).

    Google Scholar 

  32. Kimura, H. and Y. Kikuchi: Hitachi Hyoron 38, 1043 (1956).

    Google Scholar 

  33. Ruska, E.: Z. wiss. Mikrosk. u. mikrosk. Techn. 61, 152 (1952).

    Google Scholar 

  34. Müller, K.: Z. wiss. Mikrosk. u. mikrosk. Techn. 63, 303 (1957).

    Google Scholar 

  35. Septier, A.: C. R. Acad. Sci. (Paris) 243, 1026 (1956).

    Google Scholar 

  36. Septier, A.: C. R. Acad. Sci. (Paris) 243, 1297 (1956).

    Google Scholar 

  37. Septier, A.: C. R. Acad. Sci. (Paris) 245, 1406 (1957).

    Google Scholar 

  38. Septier, A.: C. R. Acad. Sci. (Paris) 245, 1905 (1957).

    Google Scholar 

  39. Septier, A., C. R. Acad. Sci. (Paris) 245, 2036 (1957).

    Google Scholar 

  40. Scherzer, O.: Optik 2, 114 (1947).

    Google Scholar 

  41. Septier, A.: C. R. Acad. Sci. (Paris) 246, 1983 (1958).

    Google Scholar 

  42. Stojanow, P. A.: Optikomechanitscheskaja Promischlennost 1958, Nr. 4, 40.

    Google Scholar 

  43. Leisegang, S.: Optik 10, 5 (1953).

    Google Scholar 

  44. Rang, O.: Optik 5, 518 (1949).

    Google Scholar 

  45. Hillier, J., and E. G. Rambekg: J. appl. Physics 18, 48 (1947).

    Article  ADS  Google Scholar 

  46. Ruska, E., u. O. Wolff: Z. wiss. Mikrosk. 62, 465 (1954/55).

    Google Scholar 

  47. Bertram, S.: J. appl. Physics 13, 496 (1942).

    Article  ADS  MathSciNet  MATH  Google Scholar 

  48. Hahn, E.: Optik 15, 500 (1958).

    Google Scholar 

  49. Hahn, E.: Jenaer Jb. 1958 I, 184. VEB Gustav Fischer Verlag, Jena.

    Google Scholar 

  50. Haine, M. E., and P. A. Einstein: Brit. J. appl. Physics 3, 40 (1952).

    Article  ADS  Google Scholar 

  51. Hibi, T.: Proc. III. Internat. Conf. on Electron Microscopy London 1954; p. 636, 1956.

    Google Scholar 

  52. Sakaki, Y., u. G. Möllenstedt: Optik 13, 193 (1956).

    Google Scholar 

  53. Archard, G. D.: Proc. Phys. Soc. 72, 135 (1958).

    Article  ADS  MATH  Google Scholar 

  54. Seeliger, R.: Optik 10, 29 (1953).

    Google Scholar 

  55. Archard, G. D.: Rev. sci. Instrum. 29, 1049 (1958).

    Article  ADS  Google Scholar 

  56. Liebmann, G.: Proc. Phys. Soc. B 68, 737. Siehe auch 682, 679 (1955).

    Article  ADS  Google Scholar 

  57. Ardenne, M. von: Z. Physik 109, 553 (1938).

    Article  ADS  Google Scholar 

  58. Cosslett, V. E., and P. Duncumb: X-ray Microscopy and Microradiography, New York: Academic Press 1957, p. 374.

    Google Scholar 

  59. Siehe diesen Band, S. 263

    Google Scholar 

  60. Archard, G. D., and T. Mulvey: J. sci. Instrum. 25, 279 (1958).

    Article  ADS  Google Scholar 

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Authors and Affiliations

  1. Institut für Elektronenoptik des Staatskomitees für Radioelektronik, Moskau, Russland

    G. W. Der-Schwarz & P. A. Stojanow

  2. Abteilung für Elektronenoptik, Firma Carl Zeiss, Oberkochen, Deutschland

    W. Weitsch

  3. Hitachi Central Research Laboratory, Kokubunji, Tokyo, Japan

    Nozomu Morito, Bunya Tadano, Shinjiro Katagiri, Hirokazu Kimura & Yoshio Kikuchi

  4. Hitachi Taga Works, Hitachi City, Ibaragi, Japan

    Hirokazu Kimura & Yoshio Kikuchi

  5. Laboratoire d’Electronique et Radioélectricité de la Faculté des Sciences de Paris, Frankreich

    Albert Septier

  6. Jena, Deutschland

    Eberhard Hahn

  7. A.E.I. Forschungslaboratorium, Aldermaston, England

    T. Mulvey

  8. A.E.I. Research Laboratory, Aldermaston Court, Aldermaston, Berkshire, England

    T. Mulvey, M. E. Haine & A. W. Agar

Authors
  1. G. W. Der-Schwarz
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  2. W. Weitsch
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  3. Nozomu Morito
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  4. Bunya Tadano
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  5. Shinjiro Katagiri
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  6. Hirokazu Kimura
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  7. Yoshio Kikuchi
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  8. Albert Septier
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  9. P. A. Stojanow
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  10. Eberhard Hahn
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  11. T. Mulvey
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  12. M. E. Haine
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  13. A. W. Agar
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W. Bargmann G. Möllenstedt H. Niehrs D. Peters E. Ruska C. Wolpers

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© 1960 Springer-Verlag OHG. Berlin · Göttingen · Heidelberg

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Der-Schwarz, G.W. et al. (1960). Linsen und Ablenksysteme. In: Bargmann, W., Möllenstedt, G., Niehrs, H., Peters, D., Ruska, E., Wolpers, C. (eds) Vierter Internationaler Kongress für Elektronenmikroskopie / Fourth International Conference on Electron Microscopy / Quatrième Congrès International de Microscopie Électronique. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-642-49765-0_5

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  • DOI: https://doi.org/10.1007/978-3-642-49765-0_5

  • Publisher Name: Springer, Berlin, Heidelberg

  • Print ISBN: 978-3-642-49481-9

  • Online ISBN: 978-3-642-49765-0

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