Zusammenfassung
In der vorliegenden Arbeit wurde die Möglichkeit einer Verfahrenskombination von Puls-Plasma-Nitrierung und anschließender PACVD-Beschichtung untersucht. Dazu wurde eine konventionelle Plasmanitrieranlage zu einer PACVD-Anlage weiterentwickelt, so daß eine Plasmanitrierung und anschließende plasmaunterstützte Hartstoffbeschichtung in einem Verfahrensablauf vorgenommen werden konnte. Die bisher zu dieser Thematik durchgeführten Arbeiten behandeln diese Verfahrenskombination entweder nur im Labormaßstab oder aber in zwei zwar aufeinander abgestimmten aber getrennt ablaufenden Vorgängen.
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Morlok, O. (1998). Zusammenfassung. In: Die Kombination von Plasmanitrierung und plasmagestützter Schichtabscheidung aus der Gasphase (PACVD) in einem Verfahrensablauf. IPA-IAO — Forschung und Praxis, vol 268. Springer, Berlin, Heidelberg. https://doi.org/10.1007/978-3-662-06656-0_7
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